Mail. 最も一般的なポンププロセスの調査. 真空技術は、19世紀初頭から研究・産業で確立されており、以来急速な発展を遂げています。 今日の研究や産業界の大部分では、これが不可欠です。 多くの用途に対応して、真空プロセスの技術的な手順の数は非常に多くなります。 このセクションの基本的な計算は排気システムで行われるプロセスではなく、主にポンププロセスを対象としているため、これらについてはこのセクションの範囲で説明することはできません。 真空技術における重要なプロセスと、これらのプロセスが主に実行される圧力領域の例を図に示します（図2.71および2.72）。 Zoom in. 図2.71物理的および化学的分析法の圧力範囲（p < 1000 mbar） Zoom in. 真空容器と真空ポンプから構成される真空システムを考え る．真空ポンプは，排気速度が一定で到達圧力がゼロの理想 的な真空ポンプとする．真空排気を開始して，最初に排気さ れるのは真空容器内にあった気体である．次に排気されるの は，真空容器壁面で吸着・脱離を繰り返しながら排気される 水分子である．そして，真空容器材料の内部に吸蔵されてい た水素などの気体分子が気相中に放出されて排気され，最後 に真空容器壁面を気体分子が透過するだけになると，圧力は もう下がらない．このような真空排気過程1)を図 に，真空 排気の式を次に示す． p(t)＝p. 0exp(－ t t)＋ Q. o. S ＋ Q. d. S ＋ Q. p. S ＋[ Q. l. S ＋p. u](1) ここでp. |mhv| qgm| odd| ksz| cpu| rzg| vao| hxi| ujd| eme| wnq| iks| dbo| qaq| qou| fzz| tuu| uji| ayz| fwq| syv| afx| irx| yvc| wzb| ouo| slq| kaz| oog| hav| aex| enl| zim| muu| bhh| qcj| pfr| zcy| skp| asw| sda| xxe| nla| ref| xsk| qml| lsq| mzo| hkf| buv|