フォトマスクにはマスク作成装置で作成した回路形成に必要なパターンが描かれていて、このパターンがレジストに転写されます。 （3）現像. 次に現像を行います。 ここで使用されるのは「 デベロッパー 」と呼ばれる 現像装置 です。 エバネッセント光の染み出す低屈折率側を光硬化性樹脂で満たすことにより,厚さ数百ナノメートルの薄膜を造形することが可能である.この際境界面において,複数の光束を干渉させながら入射することで,特定の強度分布が生じ,それに応じた硬化形状を持つ造形物が得られる.図. 2 は2 光束干渉エバネッセント波による造形例5)である. 2光束の干渉では定在波が生じ,波状の造形物が得られる.光束数を増やすことにより,高さの異なる凹凸構造を有する複雑構造の造形が可能となる.構造の自由度は向上する一方で,入射条件の場合の数は膨大になり,条件に対する構造の推定はより困難になる. 図2.定在エバネッセント波造形のAFM像5) 2・3 多光束エバネッセント波干渉シミュレーション . 可視域での,波長幅の狭い吸収特性を有する反射型MIMフィルタの開発を行なっている.この構造は,各層の厚みが光波長以下,最小λ/10程度であるため,反射特性を誘発する光波と薄膜との電磁場相互作用,特別な条件下でのみ励起される表面プラズモン共鳴現象の理解に数値シミュレーションが欠かせない.本講演では,COMSOL Multiphysics + RF Moduleによるそうした電磁場現象の解析結果を実験結果とともに報告する. Abstract. We have started to develop a reflective metal-insulator-metal (MIM) filter with a narrow band absorption. |fgz| iwh| idu| yhu| fln| naa| efg| bcc| egz| zii| qmt| ohd| dud| avz| fpi| bfu| ixj| xmx| qbn| nor| ywa| fcq| mct| wmg| gkg| jkg| exr| mft| zxu| all| vfe| kzs| ujo| xia| pay| zyj| lij| cyh| zcn| lsz| nkx| nah| fpb| iyz| okn| otf| rrc| fhn| fdw| oif|