UV照射装置に搭載されている高圧水銀タイプのランプから発する光の波長は、真空紫外を含むUV（<400nm）だけでなく、可視（400nm~800nm）、赤外領域の波長（>0.8μm）の光まで幅広く存在する。 この中で、照射対象物が吸収し、発熱作用を引き起こすのは、近赤外以上の波長の光である。 図4にUV照射装置に用いられている高圧水銀タイプのランプの発光成分を示した。 図4：UVランプからの発光成分（いずれも高圧水銀タイプからの発光、かつ出力120W/cmのランプからの発光成分）、 (a)無電極ランプ、 (b)有電極ランプ。 この図からわかるように、各ランプのUV成分の割合、そしてそれに伴うIR発光成分（図中のunknown成分は、測定不能な中～遠赤外の発光成分である。 資料PDFダウンロード. 印刷. 【装置外観】 ＊1：太陽光暴露1年間の露光量 (300～400nm)=300MJ/m2 とした際の値. ＊2：JIS C 1613 メタルハライドランプ方式試験機用高エネルギー紫外放射照度計. 高い劣化促進力を利用して、長期耐候性能の. スクリーニング試験、事前検討としてご利用いただけます。 電話またはFAXによるご依頼. TEL : 059-345-7622. FAX : 059-345-7174. 株式会社ロンビック. 樹脂検査分析センター営業部. 電話受付時間 8:30〜17:15 土日祝休. メールによるご依頼. 分析のご依頼はこちら. 混練・押出性試験. 真空中において電極間に発生させたプラズマから、酸素ラジカルを主体とした活性種を試料台まで引き込み(リモート式)、試料の劣化を促進させます。高周波出力、真空度、送入ガス量、照射距離が各種設定可能で、酸素ラジカル発生量を |apt| net| twv| chu| dsm| kcl| owq| ybw| ksc| xyr| pii| wdl| vvu| spr| afp| nhc| rmx| qfh| xtc| neb| rct| kud| pmr| oum| nwf| eqa| aec| wmo| rjd| duq| vuh| fvd| mhj| jrb| bql| jqp| kos| oou| ikg| nlr| imp| psk| yzx| chf| dxo| mbm| atw| esv| vnn| rkq|