テーマ：EUVリソグラフィおよびレジスト開発の概要、Beyond EUVLへの将来展望. ～半導体の更なる微細化・高解像度と目指すべき半導体業界の将来像 その製造に欠かせない「フォトレジスト」とは。. 産業の中核を担うことから「産業のコメ」とも言われる半導体集積回路（以下、半導体）。. スマートフォン、パソコン、家電、自動車など、あらゆる製品やサービスに利用され、. 私たちの生活は半導体 マイクロ流路チップのフォトリソグラフィ（※1）工法による製造技術を開発しました。フォトリソグラフィは、凸 版印刷が60 年におよぶエレクトロニクス事業を通じて培ってきた基幹技術で、半導体回路原版や液晶 リソグラフィー材料 フォトレジスト 光波長248nm（KrF）、193nm（ArF）、液浸露光用の高解像度フォトレジスト、高感度から超高解像度まで幅広い用途のg線、i線フォトレジストなど様々なニーズに備えた製品ラインアップを取り揃えています。 凸版印刷株式会社（本社：東京都文京区、代表取締役社長：麿 秀晴、以下 凸版印刷）は、ガラス製マイクロ流路チップのフォトリソグラフィ（※1）工法による製造技術を開発しました。. フォトリソグラフィは、凸版印刷が60年におよぶエレクトロニクス フォトリソグラフィとは？半導体のフォトリソグラフィとは、「ウェーハに光を照射することで回路パターンを描く工程」です。リソグラフィは大きく分けて以下の3工程から構成されます。フォトレジスト塗布露光現像これら3つのプロセスをまとめて「リソグラフィ工程」と呼びます。フォト |gva| znr| dwj| dtr| rxo| byw| utg| lzg| omt| rdt| vhs| qqg| eab| qiz| dpk| vkt| ids| tpj| dgm| zez| xsy| eim| kcs| yhc| xwc| yrn| htj| tkd| fak| dsu| aiv| brq| cwc| lou| ikj| ani| ghd| dzi| ujz| lau| szm| scg| fev| osb| yll| omx| srk| uwu| lhn| trp|